該真空氣氛爐以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構,爐殼采用全不銹鋼，控溫系統采用廈門宇電51段程序，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，真空電阻爐廣泛應用于金屬材料在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理；也可以用于特殊材料的熱處理。

箱式氣氛爐又簡稱氣氛爐，主要用于金屬，陶瓷，粉末冶金等相關材料的燒結，退火爐，回火等的熱處理。

HMX系列氣氛爐廣泛應用于實驗室、工礦企業、科研單位的前期實驗，還原氣氛、惰性氣氛、氫氮混合氣氛等多種類型，額定溫度分別為1100℃、1300℃、1500℃、1600、1700℃，根據不同的氣氛，不同的溫度，使用不同的加熱元件，型號齊全，安全可靠，同時也可滿足于不同工藝實驗而特殊制造。

高溫燒結爐是用石墨或金屬鎢、鉬作發熱元件的真空電阻爐，溫度范圍30-2300℃，供金屬化合物、陶瓷、無機化合物等在真空或保護氣氛中燒結制品，也可用于金屬材料的熱處理。

1200℃氫氣爐（四代）為氣體保護多用途爐，可滿足在還原氣體或成型氣體氣氛中對藍寶石退火，還原、燒結和表面處理等工藝需要，廣泛應用于航空航天、金屬材料、粉末冶金、陶瓷產品、半導體器件、厚膜電路、磁性材料等領域。

1400℃氫氣爐（四代）中的氫氣燃燒裝置可自動點燃排除的氫氣，并檢測其周圍溫度，以確保在儀器工作狀態時排出氫氣可以燃燒。如果在多次點燃失敗后，爐子會自動報警。